TSMC predstavio svoj 6-nanometarski proizvodni proces

TSMC je predstavio novi 6-nanometarski proizvodni proces koji poboljšava i nastavlja se na tvrtkin uspješni aktualni 7-nanometarski proizvodni proces

Matija Pavlić četvrtak, 18. travnja 2019. u 02:36

Nedugo nakon što je predstavljen Samsungov novi 5-nanometarski proizvodni proces utemeljen na Extreme Ultraviolet litografiji (EUV), tajvanska tvrtka TSMC predstavila je svoj 6-nanometarski proizvodni proces (N6).

Riječ je o proizvodnom procesu zamišljenom kao poboljšanoj inačici tvrtkinog aktualnog 7-nanometarskog procesa.

Novi proizvodni proces iskoristiti će značajke EUV litografije iz N7+ tehnologije te donosi poboljšanja što se tiče performansi što se tiče umjetne inteligencije, umrežavanja, 5G povezivosti, grafičkih performansi i HPC-a.

Novi 6-nanometarski proces donosi za 18% veću logičku gustoću u odnosu na 7-nanometarski proces, no pravila što se tiče dizajna identična su i time kompatibilna s aktualnom TSMC-ovom N7 tehnologijom.