Huawei započeo razvoj 5-nanometarske proizvodne linije bez zapadne tehnologije
Huawei ovim razvojem nastavlja zaobilaziti zapadne tehnološke barijere i gradi vlastiti put prema naprednoj poluvodičkoj tehnologiji
Huawei je započeo razvoj prave 5-nanometarske proizvodne linije bez korištenja EUV (Extreme Ultraviolet) litografskih strojeva, tehnologije koju je patentirala nizozemska tvrtka ASML i koja je pod zabranom izvoza u Kinu. Prema pisanju tajvanskog portala UDN, kineski tehnološki div koristi alternativu SSA800, litografske strojeve tvrtke Shanghai Micro Electronics, u kombinaciji s tehnikom višestrukog uzorkovanja (multi-patterning)
Osim toga, navodi se da Huawei i njegov glavni partner u proizvodnji čipova, SMIC, već rade na 3-nanometarskoj tehnologiji. Istraživanje se odvija u dva smjera - prvi koristi GAA (Gate-All-Around) arhitekturu, kakvu primjenjuju vodeći svjetski proizvođači TSMC i Samsung, dok se drugi fokusira na čipove temeljene na ugljičnim nanocijevima. Potonji su već prošli laboratorijsku validaciju i sada se prilagođavaju za masovnu proizvodnju.
Inače, trebamo napomenuti da je Huawei nedavno predstavio novi Matebook Fold, laptop pogonjen Kirinom X90, kojeg označavaju kao „5 nm“. Međutim, riječ je zapravo o 7-nanometarskom čipu s naprednim pakiranjem, koje omogućuje performanse usporedive s pravim 5-nanometarskim dizajnima. No, iskoristivost proizvodnje iznosi svega 50 posto, što znatno povećava trošak izrade.
