Na Stanfordu unaprijedili zaštitne maske za lice i olakšali disanje pod njima

Maske koje filtriraju sitne čestice otežavaju i protok kisika, pa je stoga tim stručnjaka odlučio izraditi rješenje koje bi kisikom obogaćivalo zrak koji se ispod maske udiše

Sandro Vrbanus petak, 17. travnja 2020. u 12:56

Na primjere inovativnosti i kreativnosti, koji su rezultat potrebe u kriznoj situaciji pandemije, nailazimo svakodnevno, a pogotovo kad je riječ o zanimljivim tehnološkim rješenjima namijenjjenima ublažavanju posljedica koronavirusa. 3D pisači već su uvelike u pogonu i izrađuju razne dodatke i opremu, inovatori stvaraju medicinske uređaje i općenito svi se snalaze kako najbolje znaju.

Tim stručnjaka sa Stanforda, koji se inače bave izradom gorivih ćelija za automobile, uhvatio se u koštac s novim esencijalnim dodatkom svih medicinskih radnika – zaštitnim maskama za lice.

Korištenje kirurških maski kao zaštitne opreme u uvjetima pandemije preporuča se svima sa simptomima i onima koji rade s pacijentima. Maske klasifikacije FFP2 filtriraju najmanje 95% čestica iz zraka, ali samim time i otežavaju disanje. Protok kisika kroz njih je "prigušen" od 5 do 20%, ovisno o uvjetima, što i kod potpuno zdravih ljudi može uzrokovati vrtoglavicu ili (u slučaju dužeg korištenja) oštećenje pluća.

Omogućili normalno disanje

Iz tog je razloga ekipa sa Stanforda osmislila uređaj koji će korisniku maske olakšati udisanje kisika. Riječ je o prijenosnom uređaju koji se može okačiti na remen i nositi oko struka. U njemu se događa obogaćivanje zraka kisikom, a takav se zrak potom kroz cjevčicu usmjerava izravno pod masku.

Kisik se u ovom uređaju može dobivati elektrolizom vode ili pomoću membrane koja bi ga izolirala iz negativno nabijenih atoma (aniona). Za sada postoji funkcionalan prototip koji elektrokemijskom reakcijom proizvodi čisti kisik i njime obogaćuje zrak za disanje. Osnovna bi namjena uređaja, jednom kad bude finaliziran, bila omogućiti dugotrajno nošenje zaštitnih maski pacijentima i zdravstvenim radnicima, bez opasnosti od otežanog disanja.